2" Magnetron Sputterbronpistool

Name: 2" Magnetron Sputterbronpistool
Brand: Zhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.
SKU: 2175330432

Henan, ChinaZhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.

US$ 2.500,00

1 Stuk

Productspecificaties

modelnummer

Productprofiel

Maatwerk

Beschikbaar

After-sales service

steunen

Garantie

1 jaar

Model NR.

KS-MSG

Type

Coating Spray Gun

Bekleding

Vacuümcoating

Substraat

glas, wafer, metalen, keramische substraten

Certificaat

Conditie

Nieuw

trefwoord

magnetisch doelkop

toepassing

magnetron coating machine waterinlaat te

productnaam

magnetron sputterbron sputteren c

structuurtype

zwaai draaibare sputterkop

koelmodus

geïntegreerde circulerende waterkoeling

ontlaadmodus

dc & rf dubbele ontlading optioneel

magnetisch circuit

hoogwaardige permanente magneet

Transportpakket

houten doos/kartonnen doos

Specificatie

1/2/4/6/8inches

Handelsmerk

Oorsprong

China

Belangrijkste kenmerken

Zwenkbare, roteerbare structuur: Het zwenkbare, verstelbare sputterkoppelstuk zorgt voor een gelijkmatige, grootschalige dunne filmdepositie voor platte substraten.

Standaard doelgrootte van 2 inch: Compatibel met sputterdoelen van 2 inch, zowel van metalen als niet-metalen materialen, waardoor een breed scala aan materialen kan worden gebruikt.

Stabiele magnetronontlading: Het geoptimaliseerde interne magnetische circuit zorgt voor een langdurig stabiele gloedontlading zonder vonkvorming.

Breed compatibel ontwerp: Geschikt voor alle laboratoriumvacuümcoatingmachines, waardoor het probleem van het vervangen van sputterkoppelstukken van verschillende merken wordt opgelost.

Geïntegreerde waterkoelstructuur: Het ingebouwde watercircuitsysteem koelt het doel effectief, waardoor oververhitting en scheuren van het doel worden voorkomen.

Lange levensduur van het magnetische circuit: De hoogwaardige permanente magneet zorgt voor een stabiele magnetische veldsterkte, geschikt voor duizenden coatingcycli.

Bedrijfsprofiel

Importeurs en exporteurs

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.

Henan, China

GecertificeerdSoort bedrijf: Fabrikant/fabriek & Handelsbedrijf GecertificeerdR&D-capaciteit: ODM-service beschikbaar & OEM Service Beschikbaar GecertificeerdAanpassingsopties: Maatwerk vanaf monsters, Maatwerk vanuit ontwerpen, etc. GecertificeerdDichtstbijzijnde Haven: Shanghai PortGemiddelde responstijd: ≤1.21h GecertificeerdBetalingsvoorwaarden: LC, T/T, D/P, etc.

Over onze fabriek & Bedrijfsachtergrond

AdresZhengzhou, Henan, China

Aantal Werknemers13

Maatschappelijk Kapitaal2,000,000 RMB

Internationale Handelsvoorwaarden (Incoterms)FOB, CIF, CFR, EXW

Gemiddelde DoorlooptijdDoorlooptijd Hoogseizoen: Binnen 15 Werkdagen, Een Maand, 1-3 Maanden, Doorlooptijd Buiten Het Seizoen, Binnen 15 Werkdagen, Een Maand, 1-3 Maanden

Minimale Bestelhoeveelheid1 unit

Partners in de toeleveringsketen10

Onze productiecapaciteit & Technische expertise

Hoofd ProductenMagnetron sputteren, laboratorium PVD-coating, thermische verdampingscoating, spincoater, vacuümatmosfeeroven, CVD-oven, tandheelkundige oven, plasmareiniger, plasmaspuitcoating, laboratorium verwarmingsapparatuur

Inspectietype voor Afgewerkte Producten100% inspectie(Visuele inspectie & Functie-inspectie)

Inspectiemethode voor afgewerkte productenEindproduct gecontroleerd door inpakpersoneel

Onze branche-ervaring & Wereldwijd bedrijfsrecord

Belangrijkste MarktenNoord Amerika

Herhaalde koperskeuze30%~50%

Aantal Buitenlandse Handelspersoneel4

Onze certificeringen, normen & Erkenning in de branche

Product certificatieCE

Product Q&A

Q:Welke afmetingen van sputterdoelen ondersteunt deze magnetron-sputterbron?

Standaard ontwerp voor sputterdoelen van 2, 4, 6 of 8 inch, compatibel met alle gangbare metalen en niet-metalen doelmateriaal.

Q:Wat is het voordeel van een scharnierend ontwerp?

Het scharnierende rotatieontwerp vergroot het effectieve coatingoppervlak en verbetert aanzienlijk de uniformiteit van de dunne filmdikte op grote substraten.

Q:Heeft deze sputterbron een koelfunctie?

Ja, er is een geïntegreerd circulatiekoelsysteem aanwezig om het doelmateriaal continu te koelen tijdens langdurig sputteren.

Q:Met welke apparatuur kan deze magnetronbron worden gecombineerd?

Het kan worden gecombineerd met verschillende laboratoriumapparaten voor vacuümcoating van dunne films, voor experimenten met metaal-, oxide- en halfgeleiderfilms.