China gebruikte uitgebreide service halfgeleider automatische Tel Alpha 8s thermische verwerkingsapparatuur

Wij kunnen gelatiniseermachines, etsmachines, coating- en ontwikkelingssystemen of systemen voor gelijkmatige coating en ontwikkeling, apparatuur voor het aanbrengen van dunne lagen, ionenimplantatiemachines, oxidatie-/diffusie-/glazuurapparatuur, ook wel warmtebehandelingsapparatuur genoemd, leveren.

De apparatuur maakt gebruik van een verticale ovenbuisstructuur en combineert meerdere onafhankelijke verwarmingselementen met adaptieve real-time temperatuurregeling (ART Control) om nauwkeurig de temperatuur in de behuizing te regelen. Het is ook uitgerust met een geforceerde koelunit om snelle verwarming en koeling en gelijkmatige warmtebehandeling te realiseren.

Ontworpen voor meerstaps warmtebehandeling van wafers, inclusief oxidatie (droog/nat), diffusie, glazuur en LPCVD. Het ondersteunt batchverwerking met een capaciteit tot 150 wafers per cyclus en beschikt over een geavanceerd controlesysteem voor volledig geautomatiseerde bediening en procesreceptbeheer.

Wijdverspreid gebruikt voor warmtebehandeling van wafers in verschillende toepassingen, zoals halfgeleider geïntegreerde schakelingen, vermogenscomponenten, MEMS en displaypanelen. Het is compatibel met siliciumwafers van 4 tot 8 inch (100-200 mm) en geschikt voor de productieprocessen van apparaten, waaronder logische chips, geheugenchips en halfgeleiders.

De belangrijkste uitdaging is het bereiken van temperatuureenheid op waferniveau, waarbij een variatie van maximaal 1 graad Celsius vereist is om het rendement van de apparaten te waarborgen. Tegelijkertijd is het noodzakelijk om te voldoen aan de strenge eisen van een beperkt warmtebudget in geavanceerde productieprocessen, de duurzaamheid van componenten die bestand zijn tegen hoge temperaturen, de hoge kosten van de apparatuur en de lange ontwikkelingscycli, evenals compatibiliteitsproblemen bij het upgraden van processen van 200 mm naar 300 mm.